臺(tái)積電不再遙遙領(lǐng)先

臺(tái)積電憑借晶體管縮小技術(shù)始終保持行業(yè)領(lǐng)先地位，從180nm到3nm，歷經(jīng)20年，成功擊敗了99%的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

特別是在28nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，通過(guò)FinFET技術(shù)逐步拉開(kāi)與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的差距，14nm以下市場(chǎng)基本處于壟斷狀態(tài)。

然而，即便如此，臺(tái)積電仍需面對(duì)摩爾定律衰減導(dǎo)致的晶體管微型化難題。

在此背景下，全周圍柵極(GAA)技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生，為制程突破提供了技術(shù)可行性。

但值得注意的是，隨著制程復(fù)雜度提升和成本激增，芯片制造商在推進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新的同時(shí)，需兼顧成本和可行性。因此，先進(jìn)封裝技術(shù)成為代工廠的另一核心競(jìng)爭(zhēng)力。

不幸的是，臺(tái)積電的兩大競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手三星和英特爾均掌握了這兩大關(guān)鍵技術(shù)路徑。

錯(cuò)失太多機(jī)會(huì)的英特爾

英特爾在芯片制造方面相較臺(tái)積電處于劣勢(shì)，導(dǎo)致其無(wú)法及時(shí)推出7納米乃至5納米芯片，從而使得產(chǎn)品性能及效率遜色于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

英特爾曾試圖采購(gòu)EUV光刻機(jī)，然而受限于ASML產(chǎn)能有限以及臺(tái)積電的優(yōu)先發(fā)貨權(quán)，使得英特爾難以獲得足夠數(shù)量的EUV光刻機(jī)，不得不耐心等待。

另一方面，英特爾在芯片設(shè)計(jì)領(lǐng)域亦面臨激烈競(jìng)爭(zhēng)，主要對(duì)手為基于ARM架構(gòu)的芯片，如蘋(píng)果M1芯片、華為麒麟芯片等。

這些芯片在節(jié)能性能上優(yōu)于英特爾芯片，更符合移動(dòng)設(shè)備和云計(jì)算需求，從而導(dǎo)致英特爾芯片在市場(chǎng)份額及影響力上的下滑。

英特爾拿起High-NA EUV[沖鋒號(hào)]

近日，英特爾已成功引入市場(chǎng)首套0.55數(shù)值孔徑的ASML極紫外光刻機(jī)，計(jì)劃在未來(lái)兩至三年內(nèi)用于其英特爾 18A工藝技術(shù)之后的制程節(jié)點(diǎn)。

與此同時(shí)，臺(tái)積電則采取了更為審慎的策略，業(yè)界推測(cè)臺(tái)積電可能會(huì)在A1.4制程或2030年之后才引入High-NA EUV光刻機(jī)。

據(jù)先前的報(bào)道，ASML將于2024年生產(chǎn)最多10臺(tái)新一代高NA EUV光刻機(jī)，其中英特爾預(yù)定了多達(dá)6臺(tái)。

這一決策表明英特爾在High-NA EUV技術(shù)方面的決心和領(lǐng)先地位。

業(yè)界分析指出，初期階段，High-NA EUV的成本可能高于Low-NA EUV，這是臺(tái)積電暫時(shí)觀望的主要原因。

臺(tái)積電更傾向于采用成本較低的成熟技術(shù)，以確保產(chǎn)品的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。

然而，High-NA EUV技術(shù)的優(yōu)勢(shì)在于其能夠提供更高的產(chǎn)能和更精細(xì)的曝光尺寸。

盡管High-NA EUV需要更高的光源功率，并可能加速投影光學(xué)器件和光罩的磨損，但英特爾的這一技術(shù)突破將為其帶來(lái)顯著的優(yōu)勢(shì)。

英特爾此次試圖通過(guò)高數(shù)值孔徑EUV技術(shù)實(shí)現(xiàn)彎道超車，這與三星2017年率先采用EUV光刻機(jī)、試圖超越臺(tái)積電7nm工藝的策略相似。

根據(jù)英特爾的最新公告，采用英特爾18A工藝制造的芯片預(yù)計(jì)將在2024年第一季度問(wèn)世，首批量產(chǎn)產(chǎn)品將于同年下半年上市。

相比之下，臺(tái)積電的N2工藝要到2025年下半年才實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

從時(shí)間上來(lái)看，英特爾將領(lǐng)先競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手一年。

英特爾作為第一家使用高數(shù)值孔徑工具進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)的公司，將引領(lǐng)晶圓廠工具生態(tài)系統(tǒng)的發(fā)展方向。

求穩(wěn)的臺(tái)積電首次使用GAA

臺(tái)積電計(jì)劃在2nm制程節(jié)點(diǎn)采用GAAFET晶體管，并在2026年發(fā)布的N2P工藝中引入Nanosheet GAA晶體管，同時(shí)搭載背面電源軌技術(shù)。制造過(guò)程仍依賴于現(xiàn)有的EUV光刻技術(shù)。

臺(tái)積電在2nm制程中首次應(yīng)用GAAFET技術(shù)，該技術(shù)與3nm和5nm制程所采用的鰭式場(chǎng)效晶體管(FinFET)架構(gòu)有所不同。

GAAFET架構(gòu)以環(huán)繞閘極(GAA)制程為基礎(chǔ)，能夠解決FinFET因制程微縮導(dǎo)致的電流控制漏電等物理極限問(wèn)題。

臺(tái)積電被視為一個(gè)保守但穩(wěn)健的制程技術(shù)開(kāi)發(fā)者，傾向于在確保新技術(shù)成熟和可靠后進(jìn)行部署，而非急于將新技術(shù)推向市場(chǎng)。

這種方法有助于降低技術(shù)失敗風(fēng)險(xiǎn)，提高芯片產(chǎn)量和質(zhì)量，確?？蛻魸M意度。

臺(tái)積電謹(jǐn)慎的方法確保了制程技術(shù)的穩(wěn)定性和可預(yù)測(cè)性，為客戶提供高質(zhì)量芯片。

此次采用GAA技術(shù)無(wú)疑是經(jīng)過(guò)充分準(zhǔn)備和規(guī)劃，有望使2nm世代見(jiàn)證臺(tái)積電新一輪的發(fā)展壯大。

事實(shí)證明，臺(tái)積電穩(wěn)健的策略似乎對(duì)一切已有充分把握，并在EUV技術(shù)達(dá)到適當(dāng)生產(chǎn)成本后，能從ASML手中獲得所需的EUV設(shè)備數(shù)量。

ASML高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)的采購(gòu)及生產(chǎn)成本過(guò)高，并不利于臺(tái)積電第一時(shí)間引入該技術(shù)以提升優(yōu)勢(shì)。

同時(shí)，臺(tái)積電與ASML幾乎同步開(kāi)發(fā)高數(shù)值孔徑EUV技術(shù)，對(duì)設(shè)備的掌握度高，因此并不急于采購(gòu)。但對(duì)于英特爾而言，這是不得不做出的選擇。

當(dāng)前，英特爾采取的策略明智，一方面全力投入2nm節(jié)點(diǎn)所需的高數(shù)值孔徑EUV技術(shù)，另一方面在3nm等先進(jìn)制程大量下單臺(tái)積電，形成進(jìn)可攻退可守的姿態(tài)。

如果2nm技術(shù)能比臺(tái)積電更快推出且具備更好的良率，英特爾將延續(xù)傳統(tǒng)榮耀，利用先進(jìn)制造工藝在產(chǎn)品上擊敗競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

明年英特爾剝離代工制造業(yè)務(wù)僅是開(kāi)始，無(wú)論2nm技術(shù)投入成敗，最終都將成為寶貴資產(chǎn)。

將決定英特爾未來(lái)代工走向

英特爾在2納米技術(shù)領(lǐng)域的先發(fā)制人，不僅旨在在后發(fā)先至的戰(zhàn)略中占據(jù)優(yōu)勢(shì)，更是決定了其未來(lái)代工業(yè)務(wù)走向的關(guān)鍵因素。

2納米技術(shù)的量產(chǎn)對(duì)英特爾的未來(lái)發(fā)展具有決定性的影響，也是其對(duì)臺(tái)積電發(fā)起進(jìn)攻的成功與否的關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)。

若英特爾在2納米節(jié)點(diǎn)上率先取得優(yōu)勢(shì)，能比臺(tái)積電更快速提升良品率，將成為首家采用高數(shù)值孔徑EDU并啟動(dòng)大規(guī)模生產(chǎn)的公司。

這有望獲得部分客戶的認(rèn)可和訂單，進(jìn)而推動(dòng)其IDM2.0戰(zhàn)略的順利推進(jìn)，有望在未來(lái)的代工市場(chǎng)中超越三星，邁向新的巔峰。

想趕超就要面臨競(jìng)爭(zhēng)風(fēng)險(xiǎn)

然而，英特爾當(dāng)前面臨的挑戰(zhàn)依然艱巨。一方面，高數(shù)值孔徑EUV的成本持續(xù)高企，試產(chǎn)的高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)的造價(jià)成本更是超過(guò)3億美元。

另一方面，高數(shù)值孔徑EUV設(shè)備本身還存在諸多難題，如光源的可支持光子散粒噪聲、0.55NA小焦點(diǎn)深度的解決方案、計(jì)算光刻能力、掩膜制造和計(jì)算基礎(chǔ)設(shè)施，這些都需要英特爾投入大量時(shí)間和精力去不斷優(yōu)化。

雖然工藝領(lǐng)先至關(guān)重要，但在代工行業(yè)，客戶支持同樣不可或缺。若英特爾能在合理時(shí)間內(nèi)完成BPD版本，并吸引更多客戶，這將成為其新的代工收入來(lái)源。

然而，在與業(yè)界巨頭如臺(tái)積電的競(jìng)爭(zhēng)中，英特爾需要關(guān)注大量客戶芯片的生產(chǎn)，這將是其持續(xù)成功的關(guān)鍵。

結(jié)尾：

盡管臺(tái)積電在NA EUV光刻機(jī)方面遭遇失利，但這并不意味著其喪失了光刻機(jī)領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)。

事實(shí)上，臺(tái)積電依然具備眾多優(yōu)勢(shì)，能夠鞏固其在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)先地位。

盡管英特爾已率先下單，但要真正迎頭趕上并超越臺(tái)積電，仍需付出更多的努力和時(shí)間。

這兩家公司的競(jìng)爭(zhēng)將更加白熱化，同時(shí)也會(huì)推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的繁榮與發(fā)展。